Ion Beam Sputtering for Substrate Deposition with a Size of 2m

Simulation and Optimization

authored by

Holger Badorreck, Tarik Kellermann, Dennis Barton, Morten Steinecke, Marco Jupé, Detlev Ristau, Andreas Wienke

Abstract

The deposition process by ion beam sputtering is scaled to a huge substrate size. Homogeneous coatings are optimized by adjusting the moveable target positions. A digital twin model combines gas flow and atomistic growth simulations.

Organisation(s)

Institut für Quantenoptik
PhoenixD: Simulation, Fabrikation und Anwendung optischer Systeme

External Organisation(s)

Laser Zentrum Hannover e.V. (LZH)
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik (IST)

Type

Aufsatz in Konferenzband

Publication date

18.05.2025

Publication status

Veröffentlicht

Peer reviewed

Yes

ASJC Scopus Sachgebiete

Atom- und Molekularphysik sowie Optik, Elektrotechnik und Elektronik, Physik der kondensierten Materie, Polymere und Kunststoffe

Electronic version(s)

https://doi.org/10.1364/oic.2025.mc.5 (Access: Geschlossen)